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OIS-Four型RF離子源 2007-09-20

OIS-Four是本公司自行研制開發的最適合IAD蒸鍍的小型高性能的射頻(RF)離子源。


的小口徑柵網，優良的離子電流密度均勻性設計，使其成為本公司OTFC-600型及OTFC-900型光學鍍膜機所最適配的離子源。


OIS-Four型RF離子源適用于各種光學濾光片的試制與生產,及其他領域的研究開發等用途,也可以用于高效率真空鍍膜過程中基板的離子洗凈。


該產品也可適用于客戶現有鍍膜機的離子源追加改裝。